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簡要描述：氨逃逸有哪些危害TK-1100型氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術(shù)，對脫硝過程中的逃逸氨進(jìn)行連續(xù)在線監(jiān)測,系統(tǒng)由取樣及傳輸單元、預(yù)處理及控制單元、分析單元三部分構(gòu)成，主要應(yīng)用于眾多工業(yè)領(lǐng)域氣體排放監(jiān)測和過程控制，例如:燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠、玻璃廠等。
產(chǎn)品型號：TK-1100廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2025-09-14訪 問 量：1280相關(guān)文章
詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,石油,建材/家具,鋼鐵/金屬 |
氨逃逸有哪些危害
一、產(chǎn)品概述（煙氣氨逃逸在線監(jiān)測分析儀系統(tǒng)（高溫抽取激光)）
脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)（TK-1100型）是由我公司榮譽(yù)出品，本系統(tǒng)包括預(yù)處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜（DOAS）技術(shù)及可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)；紫外差分吸收光譜技術(shù)原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過對連續(xù)光譜做算法分析，可同時(shí)測量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；激光光譜氣體分析技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用到對于靈敏度、響應(yīng)時(shí)間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測領(lǐng)域。
本公司生產(chǎn)的脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測系統(tǒng)（TK-1100型）耐用且易于安裝，特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過程氣體排放監(jiān)測，包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等。
二、氨逃逸形成及危害
2.1 氨逃逸的形成
在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領(lǐng)域，例如燃煤發(fā)電廠，都安裝了前燃（pre-combustion)或后燃（post combustion）NOX 控制技術(shù)的脫硝裝置，后燃NOX 控制技術(shù)可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無論應(yīng)用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過往反應(yīng)器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應(yīng)區(qū)的空間分布便可以的降低NOX 排放。
氨注入的過少，就會降低還原轉(zhuǎn)化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因?yàn)檫^量的氨導(dǎo)致NH3 逃逸出反應(yīng)區(qū)，逃逸的NH3 會與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應(yīng)生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預(yù)熱器扇面上，會造成嚴(yán)重的設(shè)備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護(hù)費(fèi)用。在反應(yīng)區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時(shí)也會出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴(yán)重的問題。
2.2氨逃逸的危害
（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費(fèi)，環(huán)境污染；
（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；
（3）逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結(jié)性）使位于脫銷下游的空預(yù)器蓄熱原件堵塞與腐蝕；
（4）過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導(dǎo)致加氣塊（灰磚）無法銷售；
三、規(guī)格與技術(shù)參數(shù)
指標(biāo) | 測量范圍 | 0-10.0ppm，0-50.0ppm 可根據(jù)用戶需求設(shè)定 |
響應(yīng)時(shí)間 | <20s | |
線性誤差 | <1%F.S | |
零點(diǎn)漂移 | 可忽略 | |
重復(fù)性 | 1%F.S | |
標(biāo)定 | 出廠時(shí)已標(biāo)定，無需定期標(biāo)定 | |
輸入和輸出信號 | 模擬量輸出 | 4-20mA電流環(huán)，750ΩMax，隔離 |
報(bào)警輸出 | 濃度超限、溫度異常、系統(tǒng)故障均報(bào)警 | |
繼電器輸出 | 2路（可擴(kuò)展），觸點(diǎn)負(fù)載24V，2A | |
通訊接口 | RS485，雙端隔離 | |
工作條件 | 環(huán)境溫度 | (-20)～50℃ |
保護(hù)等級 | IP54 | |
工作電壓 | 200V-240VAC，50Hz | |
電源功耗 | ≤3000W | |
預(yù)熱時(shí)間 | 1小時(shí) | |
伴熱溫度 | 180℃～240℃ | |
采樣流量 | 2～20L/min（可根據(jù)用戶需求定制） | |
尺寸 | 機(jī)柜 | 1000×1200×600mm（默認(rèn)尺寸） |
四、氨逃逸系統(tǒng)流路簡介
本系統(tǒng)的流路主要由測量流路、反吹流路、標(biāo)定流路及渦旋制冷流路組成，具體流路示意圖如下：
系統(tǒng)進(jìn)入測量狀態(tài)后，電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)帶動兩通球閥切換到采樣氣路，在引流泵的作用下，被測氣體經(jīng)由探頭桿、，兩通球閥、二級過濾器進(jìn)入NH3模塊，NH3模塊利用吸收技術(shù)（TDLAS）對氣體進(jìn)行分析，得到NH3的濃度（高溫?zé)釢穹ǎ笈趴铡?/p>
系統(tǒng)定時(shí)會進(jìn)入校準(zhǔn)狀態(tài)進(jìn)行自動調(diào)零，此時(shí)兩通球閥切換到校準(zhǔn)氣路，校準(zhǔn)電磁閥打開，在引流泵的作用下，環(huán)境空氣經(jīng)過濾器、校準(zhǔn)電磁閥后進(jìn)入氣體室，對氣體室中殘留的被測氣體進(jìn)行吹掃，吹掃干凈后，對NH3進(jìn)行一次調(diào)零；系統(tǒng)定時(shí)會進(jìn)入反吹狀態(tài)對采樣探頭進(jìn)行反吹，此時(shí)兩通球閥切換到反吹氣路，反吹電磁閥打開，系統(tǒng)自動控制反吹電磁閥開或關(guān)，實(shí)現(xiàn)對探頭過濾器的反吹。
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